華潤微電子迪思高端掩模項(xiàng)目將建設(shè)40nm光掩模產(chǎn)線

      11月26日，華潤微電子迪思高端掩模項(xiàng)目奠基儀式近期在無錫高新區(qū)舉行。

      此次奠基的迪思高端掩模項(xiàng)目，投資約13億元，將建設(shè)40納米先進(jìn)光掩模產(chǎn)線，助力企業(yè)進(jìn)一步提高掩模制程能力，實(shí)現(xiàn)產(chǎn)能和技術(shù)水平的雙提升，同時還將填補(bǔ)國內(nèi)高端掩模代工領(lǐng)域的空白，為無錫加快打造集成電路地標(biāo)產(chǎn)業(yè)注入新的動能。

  “迪思高端掩模項(xiàng)目是華潤微電子強(qiáng)化科技創(chuàng)新的關(guān)鍵一步。華潤微電子執(zhí)行董事、總裁”李虹表示，掩模是IC制造的重要一環(huán)，是芯片下游產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分。迪思高端掩模項(xiàng)目落成后，無錫迪思微電子將成為國內(nèi)最大的開放式掩模工廠之一。下階段，企業(yè)將繼續(xù)扛好責(zé)任擔(dān)當(dāng)、狠抓科技創(chuàng)新，加快高端掩模技術(shù)攻關(guān)，為促進(jìn)創(chuàng)新鏈和產(chǎn)業(yè)鏈的高效協(xié)同、推動集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展作出新的更大貢獻(xiàn)。